臺(tái)式離子研磨拋光儀 SEMPrep2 作為新一代的高精密氬離子研磨系統(tǒng)，可以滿(mǎn)足研究人員苛刻的研磨需求。集成式多功能截面拋削以及無(wú)損平面拋光系統(tǒng)，為 SEM 以及 EBSD 用戶(hù)提供好的制樣助力。臺(tái)式離子研磨拋光儀的研磨系統(tǒng)主要由以下幾個(gè)部分組成：
1.研磨盤(pán)：研磨盤(pán)是臺(tái)式離子研磨拋光儀的核心部件，通常由金屬材料制成，表面具有一定的粗糙度。研磨盤(pán)上可以安裝研磨紙或研磨布，用于進(jìn)行研磨和拋光操作。
2.研磨液供給系統(tǒng)：研磨液供給系統(tǒng)用于提供研磨液，研磨液通常由水和研磨劑混合而成。研磨液的作用是冷卻研磨盤(pán)和樣品，同時(shí)還可以起到清潔和潤(rùn)滑的作用。
3.研磨頭：研磨頭是連接研磨盤(pán)和樣品的部件，通常由金屬材料制成。研磨頭可以調(diào)節(jié)研磨盤(pán)和樣品之間的接觸力和研磨速度，以達(dá)到不同研磨要求。
4.控制系統(tǒng)：控制系統(tǒng)用于控制研磨盤(pán)和樣品的運(yùn)動(dòng)，包括研磨盤(pán)的轉(zhuǎn)速、樣品的旋轉(zhuǎn)和移動(dòng)等?？刂葡到y(tǒng)還可以設(shè)置研磨時(shí)間和研磨力度等參數(shù)，以滿(mǎn)足不同的研磨需求。
5.真空系統(tǒng)：真空系統(tǒng)用于在研磨過(guò)程中排除空氣，以減少樣品表面的氧化和污染。真空系統(tǒng)通常包括真空泵和真空室，可以通過(guò)控制真空度來(lái)調(diào)節(jié)研磨過(guò)程中的氣氛。
6.監(jiān)測(cè)系統(tǒng)：監(jiān)測(cè)系統(tǒng)用于監(jiān)測(cè)研磨過(guò)程中的參數(shù)，如研磨力度、研磨速度、研磨溫度等。監(jiān)測(cè)系統(tǒng)可以通過(guò)傳感器和儀器來(lái)實(shí)現(xiàn)，可以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)和記錄研磨過(guò)程中的數(shù)據(jù)。
以上就是臺(tái)式離子研磨拋光儀的研磨系統(tǒng)的主要組成部分，不同廠(chǎng)家和型號(hào)的儀器可能會(huì)有所差異，但基本原理和功能是相似的。
